2019年1月11日上午9：00至17：00，由350vip8888新葡的京集团先进材料实验中心主办的“材料分析测试技术学堂”第7期“PHI CHINA表面分析技术应用研讨会”在5号教学楼1011会议室举行。讲座邀请了高德英特公司的中国区执行总监叶上远、应用专家鞠焕鑫博士和分析技术资深顾问鲁德凤详细介绍了X射线光电子能谱（XPS）的基本原理、应用领域、常用实例和复杂实例的数据处理方法、以及原位XPS-UPS-IPES-GCIB的应用，还介绍了俄歇电子能谱（AES）和飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）的原理与应用，以及表面分析技术的最新发展。学校相关师生60多人参加了报告会，并进行了深入的技术交流和探讨，安排了PHI Quantera II XPS的上机操作演示和和现场指导。

　　X射线光电子能谱（XPS），是一种高灵敏高精度的表面分析技术，可以提供固体表面和界面的化学信息。XPS可以检测除氢和氦以外元素周期表中所有元素；可观测化学位移，提供与化学态、分子结构，官能团相关的信息；可定量测定元素的相对浓度，测定同一元素不同化学态的相对浓度；采样深度约为1~10nm。XPS广泛应用于聚合物、无机化合物、有机化合物、催化剂、涂层材料、纳米材料、牙齿，骨骼，医疗植入物、生物材料等各个领域的研究。

　　目前350vip8888新葡的京集团先进材料实验中心的PHI Quantera II X射线光电子能谱仪运行良好，欢迎广大老师和同学前来参观和测试。